黃光微影 (Photolithography) 製程技術是全球新興科技與產業的核心，隨著產業、產品、與製程的演變，傳統黃光微影製程中的光罩漸漸成為一種負擔與障礙；近十年來，無光罩式微影 (Maskless Lithography) 製程技術日益受到重視；特別在美國德州儀器公司成功發展「數位光學投影」(Digital Light Processing, DLP) 技術與「數位反射鏡陣列裝置」(Digital Mirror Device, DMD) 後，無光罩微影系統的發展一日千里，在電子業的滲透率與普及率與日俱增，未來很有可能全面取代光罩式的曝光機台。目前全球的無光罩式微影系統都是由外商掌控，例如德國Orbotech、日本ORC、Screen、ADTEC…等，而中國大陸也有廠商 (中山新諾、大族數據、合肥芯碁…) 陸續進入無光罩曝光機的市場，而台灣在此一領域尚未有任何一家自有技術與品牌的無光罩曝光機台，成為未來台灣IC電子產業的隱憂。有別於現有的機台與技術，本計畫採用自有專利的「非球面微透鏡陣列、空間濾波器、UV 光點陣列、斜掃描曝光」的架構，發展此一無光罩曝光機，原因是可以在不損及能量效率與產率的前提下，將曝光的解析度與最小線寬壓縮到5~10 um的水準，符合未來5~10 年的產業發展需求，並超越與擺脫現有機台的競爭。