首頁 展示資訊 展品查詢

高品質共面非對稱二維半導體之晶體開發

回上一頁

高品質共面非對稱二維半導體之晶體開發

單晶成長採用可程式真空封管技術,由可程式圖型面板控制器來控制氣動閥門,每次抽破真空只配合氬氣進入石英管,不去破壞整體擴散幫浦的真空狀態,因此能維持高真空達2~3x10-6 Torr,封管後將二支石英管置於水平三段高溫爐,溫度梯度設1060 --> 1000 °C,14天可長成高純度大又厚的層狀單晶。ReS2與ReSe2具備了三斜晶低對稱性,因具有共面非對稱性可有5組能隙激子發光,為E1ex, E2ex, E3ex, ES1ex 與 ES2ex且為不同軸向的線性偏振光,可製做多波長紅外線發射器光源,目前世界上除了我們的晶體外皆只能有E1ex與 E2ex的2個激子發光,這驗證了我們的晶體成長技術。1.可提供塊材ReS2,ReSe2和ReS2(1-x)Se2(x)不同成分之(大)層狀單晶
2.可技術移轉本實驗室真空封管暨晶體成長技術
3.可代為設計並製做原型電子與光電元件
4.可提供二維半導體材料與元件之光電特性與品質檢測之服務

聯絡人

  • 姓名:何清華

  • 電話:02-27303772

  • 地址:臺北市基隆路四段43號

Email

其他資訊

  • 展館別:未來科技館

  • 所屬代表參展單位:國科會

  • 主要應用領域:電子與光電

位置 更多資訊

相關網站連結

  • 技術成熟度:試量產

  • 展示目的:可交易技術、商機推廣、研發成果展示

  • 流通方式:技術授權/合作

詢問

*服務單位

*姓名

*Email

*洽商內容/需求

需求說明

洽商單

*服務單位

*姓名

*Email

*洽商內容/需求

需求說明

敬請期待!

TOP

會員登入

帳號

密碼

忘記密碼