高功率元件邊緣因為P-N接面曲率大導致的電場集中效應,通常是優先崩潰的位置,因此需要設計邊緣終端保護結構。本團隊採用多重浮動區接面終端延伸(MFZ JTE)結構,優化濃度、深度、間距等參數,終端保護結構的寬度僅同等級崩潰電壓產品的30%,團隊並提出雙層結構以及碳化矽局部氧化等技術,增進對外部電荷干擾的抵抗能力,極具應用優勢。
國立陽明交通大學(NYCU)於2021年由國立陽明大學與國立交通大學合併而成,位於新竹市。學校擁有強大的科技、工程、醫學及社會科學領域,並在資訊技術、生物醫學、人工智慧等領域具有卓越的研究實力。國立陽明交通大學致力於跨領域合作與創新,並培養具全球視野的專業人才,積極應對社會挑戰與推動科技發展,為學術界和產業界作出重要貢獻。
技術成熟度:雛型
展示目的:研發成果展示、可交易技術
流通方式:自行洽談、技術授權/合作
敬請期待!