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高效率邊緣保護結構

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高效率邊緣保護結構

高功率元件邊緣因為P-N接面曲率大導致的電場集中效應,通常是優先崩潰的位置,因此需要設計邊緣終端保護結構。本團隊採用多重浮動區接面終端延伸(MFZ JTE)結構,優化濃度、深度、間距等參數,終端保護結構的寬度僅同等級崩潰電壓產品的30%,團隊並提出雙層結構以及碳化矽局部氧化等技術,增進對外部電荷干擾的抵抗能力,極具應用優勢。

國立陽明交通大學

國立陽明交通大學(NYCU)於2021年由國立陽明大學與國立交通大學合併而成,位於新竹市。學校擁有強大的科技、工程、醫學及社會科學領域,並在資訊技術、生物醫學、人工智慧等領域具有卓越的研究實力。國立陽明交通大學致力於跨領域合作與創新,並培養具全球視野的專業人才,積極應對社會挑戰與推動科技發展,為學術界和產業界作出重要貢獻。

聯絡人

  • 姓名:崔秉鉞

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其他資訊

  • 展館別:未來科技館 2023半導體 FB21

  • 所屬代表參展單位:國家科學及技術委員會

  • 主要應用領域:電子與光電、綠能與環境

位置 更多資訊

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  • 技術成熟度:雛型

  • 展示目的:研發成果展示、可交易技術

  • 流通方式:自行洽談、技術授權/合作

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