技術簡介:
1.發展新穎具空氣穩定性的六聚氧化錫無機光阻，並建立專利平台
2.針對線距(pitch)、EUV能量及線緣，新光阻EUV已達到設定目標，接近商用水準，比美商業光阻;
3.開發新型混合方法,以提升EUV奈米圖案的膜厚與邊緣抗蝕能力
4.製備用於EUV微影技術的20奈米解析度干涉光罩
產業應用性:
當IC製程邁向1.4奈米甚至更小時，無機光阻在EUV微影技術中展現出優勢。其主要原因之一是相較於有機材料，無機光阻對昂貴的EUV光具有更強的吸收能力。無機光阻薄膜僅需20–30奈米的相對較小厚度即可完成微影，而高分子光阻則需要35–40奈米。這種厚度上的特性確保了微影圖形的穩定顯影。
國立清華大學（National Tsing Hua University, NTHU）成立於1911年，位於新竹市，是台灣頂尖的研究型大學之一。學校提供多元的學科領域，包括工程、科學、管理、人文等，致力於創新研究與國際化發展。
技術成熟度：其他
展示目的：研發成果展示
流通方式：自行洽談
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