首頁 展示資訊 展品查詢

Atomic Layer Pitch Splitting: a breakthrough equipment solution for advanced semiconductor manufacturing.

回上一頁

Atomic Layer Pitch Splitting: a breakthrough equipment solution for advanced semiconductor manufacturing.

Technology Introduction:
AlixLabs' unique and patented Atomic Layer Pitch Splitting (APS) is a novel plasma-based etching method that selectively targets surface topology. This breakthrough technology eliminates several complex steps in chip manufacturing, enabling more efficient, cost-effective, and sustainable semiconductor production.
Industry Applicability:
APS enables cost-efficient scaling of semiconductor devices by doubling pattern density. It reduces manufacturing costs, lowers energy use, and supports sustainable, high-volume production. Applicable in logic, memory, and power devices, APS accelerates industrial adoption with scalable chip manufacturing.

AlixLabs AB

"AlixLabs is a Swedish semiconductor industry supplier with equipment and processes capable of manufacturing nanostructures with characteristic sizes smaller than 20 nanometers. We enable energy efficient fabrication of structures beyond the resolution limits of optical and electron beam lithography – through APS™."

聯絡人

  • 姓名:Amin Karimi

  • 電話:+46736541476

  • 地址:SWEDEN

Email

其他資訊

  • 展館別:未來科技館 IC創新應用 FK20

  • 所屬代表參展單位:國家科學及技術委員會

  • 主要應用領域:材料化工與奈米

位置 更多資訊

專利

  • 16084992

    • 專利名稱
    • 申請國家
    • 專利類別
    • 專利權人
    • 申請號
    • 公告號
    • 專利名稱

      Method for selective etching of nanostructures

    • 申請國家

      台灣/中華民國

    • 專利類別

      發明(TW,CN)/特許(JP)/Utility Invention(US)

    • 專利權人

      AlixLabs

    • 申請號

      16084992

    • 公告號

      16084992

相關網站連結

  • 技術成熟度:雛型

  • 展示目的:商機推廣

  • 流通方式:新產品開發

詢問

*服務單位

*姓名

*Email

*洽商內容/需求

需求說明

洽商單

*服務單位

*姓名

*Email

*電話

*您參觀這項展品的主要目的?

*您是否希望進一步洽談




*您的職務類別







*展覽整體評價

*最喜歡的展區

*期待展覽著重的技術領域

*是否願意收到電子報/最新資訊


其他建議

敬請期待!

TOP

會員登入

帳號

密碼

忘記密碼