光誘導精準原子層鍍膜設備
技術介紹:
光誘導精準原子層鍍膜 (PI-ALD)，藉由特殊機構設計，成為全球唯一導入光催化反應於物質沈積的技術，能有效解決先進製程上溝渠填補的製程痛點，同時，又可藉由控制光催化達到差異性鍍膜的全球唯一技術。藉由此技術沈積的薄膜同時具有更低的表面粗糙度、更低的官能基元素如碳氧之殘留、更低的金屬電阻率、更快的成膜速率等優勢
產業應用性:
光誘導原子層沉積利用紫外光或可見光激發前驅物反應，可在低溫下進行沉積，並達成區域選擇性成長。主要產業應用包括：半導體先進製程的選擇性沉積與自對準圖案化、降低熱預算以保護溫度敏感元件；軟性電子與 OLED 顯示的低溫薄膜封裝；以及光催化、感測器與透明導電膜等領域。其光控時空精度，契合異質整合與微縮趨勢下的精準製程需求。
國立清華大學
國立清華大學（National Tsing Hua University, NTHU）成立於1911年，位於新竹市，是台灣頂尖的研究型大學之一。學校提供多元的學科領域，包括工程、科學、管理、人文等，致力於創新研究與國際化發展。
