前瞻半導體設備與材料在地化服務平台：EUV 反射鏡鍍膜技術
技術介紹:
EUV (極紫外光) 反射鏡為先進微影關鍵元件，國儀中心所開發之 EUV 反射鏡由數十對交替堆疊的鉬 (Mo) 與矽 (Si) 奈米薄層組成，且需經過極高精度的設計與沉積控制，使其形成特定結構以達到反射品質。本技術未來將應用於國儀中心獨立式極紫外波長檢測服務平台之收光系統中，展現其在高精度光學與先進製程上的關鍵價值。
產業應用性:
本技術可支援先進半導體 EUV 微影製程，是製造 5 奈米以下甚至更先進製程晶片的關鍵光學元件，同時可應用於 EUV 光源檢測、光學校準與量測系統，提升製程監控精度。此外，其高精度奈米多層膜與表面控制技術，也可延伸至高端精密光學、科研儀器與極紫外光應用設備領域，具備半導體供應鏈核心與高附加價值應用潛力。
財團法人國家實驗研究院
財團法人國家實驗研究院（National Institutes of Applied Research, NIAR），簡稱國研院，成立於 2003 年 6 月，隸屬於國家科學及技術委員會，下轄７個國家級實驗研究中心，由院本部統合協調各單位之運作，以提升彈性與效率，促成國家科技發展體系之垂直整合。藉由整合各研究中心之核心技術與設施，國研院提供國內產、官、學、研界進行「地球環境」、「資通訊科技」、「生醫科技」、「科技政策」等領域所需之研發平台與技術服務。
