我們的技術成功的製造了氮化矽超穎介面,從而創建了具備高彩度且生動的微型化彩色像素。我們的技術包含了數值模擬,製程設計和實驗量測,除了一般反射模式的應用之外,我們還進一步發現在氮化矽超穎介面上利用側向光入射可一樣提供鮮豔的色彩。因此,這可以將這種表面的應用擴展到頭戴式顯示器、光達、和導波照明等技術。1. 本研究首先展示具有米氏晶格共振的氮化矽超穎介面彩色像素,最小像素可達邊長2.5 um。
2. 本研究的元件易於設計和製造,因為可以抑制高階Mie晶格共振,因此可提高了色彩飽和度。
3 .本研究也是第一次公開展示,通過使用Mie晶格共振超穎介面,可以通過波導元件在側向光入射中展示鮮豔的色彩。1. 此應用可與矽光子產業結合, 搭配台灣製程技術之領先優勢, 整合開發微型化矽光子平台與頭戴顯示器(AR/VR)元件
2. 可以與 Micro-LED產業結合, 開發下一世代微型化顯示技術, 可應用於頭戴顯示以及其他微型化顯示器。
技術成熟度:雛型
展示目的:可交易技術、商機推廣、研發成果展示
流通方式:專利授權/讓與、技術授權/合作
敬請期待!