寬能隙半導體材料具有抗輻射、耐高溫、高頻操作特性,能滿足高頻通訊應用對效率、功率密度、高溫操作要求。中科院執行政府科技專案,發展半絕緣碳化矽長晶、氮化鎵磊晶與元件製程、氮化鋁散熱基板金屬化等射頻元件產業所需關鍵材料與技術,並應用於40W級Ku頻射頻功率放大器研製,並衍生相關專利與技術可供產業界運用。
提升國防科技能力、建立自主國防工業、拓展國防及軍民通用技術。
技術成熟度:實驗室階段
展示目的:研發成果展示
流通方式:自行洽談
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