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寬能隙元件技術與應用

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寬能隙元件技術與應用

寬能隙半導體材料具有抗輻射、耐高溫、高頻操作特性,能滿足高頻通訊應用對效率、功率密度、高溫操作要求。中科院執行政府科技專案,發展半絕緣碳化矽長晶、氮化鎵磊晶與元件製程、氮化鋁散熱基板金屬化等射頻元件產業所需關鍵材料與技術,並應用於40W級Ku頻射頻功率放大器研製,並衍生相關專利與技術可供產業界運用。

國家中山科學研究院

聯絡人

  • 姓名:許智超

  • 電話:0930-999-495

  • 地址:桃園市龍潭區佳安里6鄰中正路佳安段481號

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其他資訊

  • 展館別:創新領航館 半導體 IC10

  • 所屬代表參展單位:國防部

  • 主要應用領域:材料化工與奈米

位置 更多資訊

寬能隙半導體射頻功率元件技術與應用.pdf

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  • 技術成熟度:實驗室階段

  • 展示目的:研發成果展示

  • 流通方式:自行洽談

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