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多晶片電性修正技術應用於低翹曲面板級封裝

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多晶片電性修正技術應用於低翹曲面板級封裝

因應未來 IC 高速運算需求,整合無光罩數位圖案化和低溫濺鍍技術,開發高解析(2μm)、低翹曲(warpage < 0.2mm @37X47 cm²)之4層重分佈層,可應用於高階面板級先進封裝。

財團法人工業技術研究院

工業技術研究院是國際級的應用研究機構,擁有六千位研發尖兵,以科技研發,帶動產業發展,創造經濟價值,增進社會福祉為任務。自1973年成立以來,率先投入積體電路的研發,並孕育新興科技產業;累積近三萬件專利,並新創及育成,包括台積電、聯電、台灣光罩、晶元光電、盟立自動化、台生材等上市櫃公司,帶動一波波產業發展。

聯絡人

  • 姓名:王泰瑞

  • 電話:(03)5912570

  • 地址:新竹縣竹東鎮中興路四段195號

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其他資訊

  • 展館別:創新經濟館 半導體 IC19

  • 所屬代表參展單位:經濟部產業技術司

  • 主要應用領域:電子與光電

位置 更多資訊

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  • 技術成熟度:量產上市

  • 展示目的:可交易技術

  • 流通方式:專利授權/讓與

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