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Photo-patternable Low Dk & Df material for 5G

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Photo-patternable Low Dk & Df material for 5G

FUJIFILM are developing Low Dk (dielectric constant) & Df (dissipation factor) insulating material to reduce transmission loss and noise in 5G devices. Furthermore, since this material also has patterning properties, it can be easily applied to various devices.

1. Good electrical properties (Low Dk & Df)
2. Photo-patternable

聯絡人

  • 姓名:Kenta Yamazaki

  • 電話:+81-548-34-5506

  • 地址:

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其他資訊

  • 展館別:創新領航館 半導體專區

  • 所屬代表參展單位:經濟部中小及新創企業署

  • 主要應用領域:電子與光電

位置 更多資訊

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  • 技術成熟度:實驗室階段

  • 展示目的:可交易技術、商機推廣

  • 流通方式:專利授權/讓與

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