數位微影技術是全球新興科技與產業的核心,可應用於IC封裝、印刷電路板、面板、LED製程等。本計畫涵蓋數位微影技術三項核心技術: 數位光學引擎、演算法以及高速FPGA晶片韌體控制與計算,利用人工智慧的機器學習演算法整合微影製程與光學檢測,提升製程品質與效率,推動臺灣PCB產業進入智慧化製造層次。本計畫自行開發數位微影曝光技術中的核心技術:數位微影光學引擎、高速晶片控制與機器學習整合之韌體、機器學習模型的圖案分類及最佳化曝光能量演算法。除含光學引擎之數位微影系統,另依據微影光學物理模型分析、模擬與預測微影製程後光阻圖案結果,即時提供工程人員進行分析,提升微影製程設備價值以達成高效能生產目的。數位微影技術可應用於IC封裝、印刷電路板、面板、LED製程等。本計畫所預期建立的智慧化微影與檢測製程整合關鍵技術可提升臺灣PCB產業至智慧化製造層次。少量多樣化設計的製程自主優勢、智慧軟體結合尖端硬體設備的全方位整合系統,加強台灣發展微影與高值化檢測設備技術的競爭力,並培育智慧微影製造相關研究人才。
國立台灣工業技術學院成立於民國六十三年八月一日,為我國第一所技術職業教育高等學府以招收大學部學生為主。建校之目的,在因應我國經濟與工業迅速發展之需求,以培養高級工程技術及管理人才為目標,同時建立完整之技術職業教育體系。於六十八年及七十一年起分別設置碩、博士班,八十六年改名為「國立臺灣科技大學」。本校校地含臺北總校區、公館新校地、土城野外試驗場、基隆坡地工程研究試驗站及新竹分部,目前校地面積34.3公頃,校舍建築總樓地板面積24萬9,111平方公尺,校本部位於臺北市基隆路四段43號。至112學年度大學部學生約5,593位,研究生約6,079位,專任(含專案)教師約548位。
技術成熟度:實驗室階段
展示目的:可交易技術、可交易專利、商機推廣、研發成果展示
流通方式:技術授權/合作
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