光誘導精準原子層鍍膜
原子層鍍膜(ALD)是半導體先進製程中的關鍵技術，現有方法未能解決溝渠填補中的孔隙問題。本團隊在國科會和業界支持下，歷經十年開發光催化原子級精準薄膜沈積技術，克服傳統限制，於高深寬比之結構晶片中成功填入無縫隙、無微孔、低雜質的介電材料，目前與多家上下游半導體公司合作，推進這一創新技術的商業化。
姓名：邱博文
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展館別：未來科技館 2024電子&光電 FF08
所屬代表參展單位：國家科學及技術委員會
主要應用領域：電子與光電
應用於驅動三軸光纖陀螺儀之多功能矽光子積體電路
高遷移率材料、製程、多層疊元件及熱電路模型；鐵電鉿基氧化物之負電容特性研究及相關應用；先進原子層材料與模組技術
用於光達系統擁有高單光子偵測效率和高飽和電流特性的雙層累增層設計累增崩潰光二極體
高深寬比多成份低溫原子層沉積技術
技術成熟度：雛型
展示目的：研發成果展示
流通方式：自行洽談
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