從實驗室到應用：磁控濺鍍製備非蒸發式吸氣薄膜(NEG)
我們以磁控濺鍍製備非蒸發式吸氣薄膜(NEG film)。經活化後，這些薄膜在無幫浦下可維持超高真空(10-10(上標) Torr)，活化溫度低於200 ℃，經活化後的吸氣劑薄膜吸附真空系統中殘餘的氣體以達到所需的真空度。真空系統中常見的殘餘氣體有H2(下標)、H2(下標)O、CO、CO2(下標)。
姓名：薛秦
電話：
地址：
展館別：未來科技館 2024法人計畫成果 FC01
所屬代表參展單位：國家科學及技術委員會
主要應用領域：電子與光電
高遷移率材料、製程、多層疊元件及熱電路模型；鐵電鉿基氧化物之負電容特性研究及相關應用；先進原子層材料與模組技術
碳化矽互補式金氧半場效應電晶體積體電路與高功率電晶體整合技術
可應用於單晶片三維積體電路與超高解析度顯示背板之異質互補式薄膜電晶體元件技術
以印刷式自發光量子點元件與無擋牆面板技術製備下世代自發光量子點軟式透明顯示器
技術成熟度：試量產
展示目的：研發成果展示
流通方式：自行洽談
*服務單位
*姓名
*Email
*洽商內容/需求
需求說明
敬請期待!
線上展
帳號
密碼
